ALD 装置の開発完了について

2019 年８月 23 日
各 位
会 社 名 株 式 会 社 オ プ ト ラ ン
代 表 者 名 代表取締役社長執行役員 林 為 平
（コード番号：6235 東証第一部）
問合わせ先 取 締 役 専 務 執 行 役 員
高橋 俊典
管理部長兼経営企画室長
（TEL. 03-6635-9487）




ALD 装置の開発完了について

当社では、光学薄膜をさらに発展させ、ALD（原子層堆積法）を用いた新型装置の開
発を完了しましたので、お知らせいたします。当社グループの Afly solution Oy 社
（フィンランド）の ALD 技術と当社のプラズマ技術とを融合し、光学薄膜用に最適化
したプラズマ原子層堆積装置（A800P）の新たな開発を行っておりましたが、完了した
ものです。


特徴は、レンズ局面や３D 構造物等の複雑な表面へ均一・極薄・低温成膜をするこ
とができます。また、プラズマ原子層堆積装置で従来課題となっていた大量成膜を実
現するとともに、原料供給やプラズマ照射の最適化により 1 回あたりの成膜時間を短縮
し、お客様の生産効率向上にも貢献いたします。
本装置は、スマートフォン等の高機能カメラレンズ反射防止膜やリチウムイオン電
池・Micro LED の保護膜等の成膜での利用が期待されています。


当社は今後も成膜新技術を新型装置に反映し、新たな市場開拓に努めてまいりま
す。


参考：
ALD（Atomic Layer Deposition:原子層堆積法）とは、フィンランドで開発された、真
空を応用した成膜技術であり、原子の性質である自己制御性を利用して、一層ずつ原子
を堆積させる成膜方法。


以上