Oxford InstrumentsがAtomfabを発表: GaNパワーデバイスのパッシベーションに対応するALD量産ソリューションの国内販売をアルバックが開始

報道関係者各位




2019 年 7 月 29 日
会 社 名 株式会社アルバック
代表者名 代表取締役執行役員社長 岩下 節生
(コード番号：6728 東証一部)
発 信 元 I R 室 長 梅 田 彰



Oxford Instruments が Atomfab®を発表：
GaN パワーデバイスのパッシベーションに対応する ALD 量産ソリューションの
国内販売をアルバックが開始


株式会社アルバック（本社：神奈川県茅ヶ崎市、代表取締役執行役員社長：岩下節生、以下「ア
ルバック」
）は、この度、Oxford Instruments Plasma Technology（OIPT）が GaN（窒化ガリウ
ム）パワーデバイス業界向けプラズマアトミックレイヤーデポジション（ALD） HVM(high-volume
manufacturing)ソリューション Atomfab®の国内販売開始を致します。


GaNデバイスは、省エネ家電、5Gネットワーク、電気自動車、再生可能エネルギー変換などの
用途に適した次世代の効率的なパワーエレクトロニクスデバイスを実現します。


GaNデバイスは、現在の技術より効率と性能に優れていますが、製造歩留まりと量産性の二点
に課題があります。信頼性あるデバイスを低コストで提供するには、これらの課題を解決する必
要があります。


ここで重要な課題の1つは、高品質のゲートパッシベーションを安定して実現することですが、
Atomfab®は、高スループットと低CoOによりこれらの課題を解決します。


1. 性能：優れたパッシベーションと誘電特性は、主要アプリケーションに必要な優れたデバ
イス性能を提供します。
2. プラズマ：リモートプラズマが再現可能なGaN界面を提供します。Atomfab®は、プラズマの
正確な制御により、下地の繊細なGaN基板を保護します。
3. 速度：GaNパワーアプリケーション用に開発された長稼働時間のHVMに耐えうるプラットフ
ォーム上で高速成膜プロセスを使用することにより、卓越したスループットを実現します。
Atomfab®は、特許申請中の高速リモートプラズマソースなど、多数の技術革新により、ウエハ
ーあたりのコストを大幅に削減します。

---

 また、SEMI規格のクラスター構成と高度なプロセス制御により、枚様式プラットフォーム上に
おいて最新の化合物半導体ソリューションを提供します。


OIPTの戦略ビジネス開発ディレクターであるKlaas Wisniewskiは、次のように述べています。
「Atomfab®は、大幅なCoO削減、歩留まりの向上、卓越した膜の品質とデバイス性能など、多く
の利点をGaNデバイスメーカーに提供します。OIPTは長年、化合物半導体プラズマソリューショ
ンのサプライヤーとして信頼を得てきました。当社は、優れたデバイスを毎日いつでも生産して
いただけるよう、蓄積した知識をHMVプラットフォームに活用しています。」


OIPTのマネージングディレクターであるMike Gansser-Pottsは、次のように述べています。
「当社は、独自のプラズマALDソリューションで高い評価を得ており、量産をするお客様からの
意見を反映して常にソリューションの改良に努めてきました。お客様のニーズを満たすHMVソリ
ューションとしてAtomfab®を発表することをうれしく思います。」



【装置写真】ALD 量産ソリューション Atomfab®




以上

---

Oxford Instruments について
Oxford Instruments は、研究および産業用途に重点を置き、ハイテクツールおよびシステムの設計、供給、サポートに従事してい
ます。革新を原動力として 50 年以上にわたって成長と実績を重ね、常に革新的なアイデアを速やかに、お客様重視の観点から市場
化することにより成功を収めてきました。Oxford Instruments は、オックスフォード大学から独立した最初のテクノロジー企業で
あり、 今ではロンドン証券取引所 （OXIG）に上場する国際企業です。新世代のツールやシステムのリーディングプロバイダーとして、
研究および産業用途に対応し、ナノテクノロジーに重点を置いています。主要市場にはナノ加工とナノ材料があります。長期的に
は、ナノテクノロジーとバイオテクノロジーが交差するライフサイエンス事業への参入を計画しています。

これには、低温、強磁場、超高真空環境のほか、核磁気共鳴、X 線、電子、レーザー/光学を利用した計測、原子間力顕微鏡、光学画
像、高度な成膜、デポジション、エッチングなどの主力技術の組み合わせが必要です。

Oxford Instruments は、責任ある開発、そして科学と技術を通じた世界の深い理解を追求しています。当社の製品、技術、アイデ
アは、エネルギー、環境、安全保障、健康などのグローバルな問題に対応しています。



Oxford Instruments Plasma Technology について
Oxford Instruments Plasma Technology は、マイクロ/ナノ構造の高精度、制御可能、反復可能な設計を目的として、フレキシブル
に構成可能なプロセスツールと最先端プロセスを提供しています。当社のシステムは、ナノメートルサイズ構造のエッチング、ナノ
レイヤーの成膜、制御下にあるナノ構造の成膜に対応したプロセスソリューションを提供します。
これらのソリューションは、 プラズマデポジションとプラズマエッチング、 イオンビームデポジションとイオンビームエッチング、
アトミックレイヤーデポジション、ディープシリコンエッチング、物理的蒸着(PVD) などにおける主要技術に基づいています。製品
には、研究開発（R&D）用の小型スタンドアロンシステムから、バッチツール、高スループット生産に対応するクラスター型カセッ
トツーカセット（C to C）プラットフォームまで含まれます。




【本件に関するお問合せ先】
株式会社アルバック 電子機器事業部 TEL: 0467-89-2139


【国内営業】
アルバック販売株式会社
本社（東京）TEL: 03-5769-5511(代) FAX:03-5769-5522
大阪支店 TEL: 06-6397-2281(代) FAX:06-6397-1171


【関連ウェブサイト】https://www.ulvac.co.jp/
https://www.ulvac.co.jp/products_j/
https://plasma.oxinst.com/campaigns/technology/atomic-layer-deposition

---