フォトマスク製造装置の受注残高が過去最高額を更新

2023年11月20日
PR情報
会 社 名 株 式 会 社 ブ イ ・ テ ク ノ ロ ジ ー
代 表 者 代表取締役 兼 社長執行役員 杉本 重人
（コード番号：7717 プライム市場）
問 合 せ 先 社長室 IR グループ長 吉村 省吾
（TEL：045-338-1980）


フォトマスク製造装置の受注残高が過去最高額を更新

株式会社ブイ・テクノロジー（本社：神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町１３４横浜ビジネスパーク
イーストタワー９F 代表取締役 兼 社長執行役員 杉本 重人、以下「当社」）は、フォトマスク製
造装置の受注残が、2024 年 3 月期の中間決算にて過去最高額を更新し、約 75 億円となりましたので
下記にお知らせいたします。



19,810
20,000 半導体・フォトマスク装置事業

フォトマスク装置



10,000
7,548

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21年度Q1 21年度Q2 21年度Q3 21年度Q4 22年度Q1 22年度Q2 22年度Q3 22年度Q4 23年度Q1 23年度Q2



半導体・フォトマスク装置事業と、当該事業の主力であるフォトマスク用装置の受注残高の推移(百万円)


記

（図）デザインルール別の生産能力推移
１．背景 (2023 年以降は予測) SEMI データより当社作成

脱炭素社会の実現に向けた GX(グリーントランスフォ
ーメーション)や、地域独自の半導体のサプライチェーン
の立ち上げを目指す動き等が世界的に活発化する中で、 130nm

パワー半導体に代表されるレガシー半導体の需要につい
ては、中長期の持続的な成長が見込まれています。
90nm


このような状況の下、各国ではレガシー半導体の生産
能力を増強させる為に、大規模な設備投資(右図
90~130nm)を本格化させており、製造に不可欠なフォト
マスク製造に関連する投資も増加傾向にあります。

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２，欠陥検査装置「Dione（ディオーネ）」が受注残の増加を牽引

Dione は、FPD 用に開発された検査装置「Gemini」で
培った技術をベースに、お客様のご要望を取り入れ半導体
用に再設計された、高速・高精度な検査装置です。

高速 TDI を使って透過検査･反射検査を同時に行えるた
め、検査時間を 1/2～1/4 に短縮可能です。
加えて、省スペース設計により装置の設置スペースに制
限がある事が多い既存のクリーンルームから新設の工場ま
で、場所を選ばず様々なシーンでお使いいただくことがで
き、国内外のお客様から数多くのご注文と引合いを頂戴し
ております。 （写真）欠陥検査装置 Dione
半導体用フォトマスク上にあるパターンの欠陥、異物検
査を高速、高精度で行う欠陥検査装置
特長
高速、高分解能で Die to Database、Die to Die 検査が可能
専用 Database エンジン（RIG System）を搭載、高密度データ対応
光源にランプを使用し、低ランニングコストを実現
透過検査/反射検査の同時検査可能
検査中レビュー機能／他




３．今後について
今後は、短波長化により更に微細なデザインルールで設計された半導体の製造に対応する技術の開
発を急ぐと共に、業務提携や M&A 等によるビジネスパートナーの獲得にも積極的に取り組み、地域
を超えて世界中の半導体製造のお客様に貢献できますよう、尽力してまいります。
以上

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